沿革

1954
創業当時の工場

創業当時の工場

昭和光機製造株式会社 設立
カメラレンズ・双眼鏡などのオプティクス生産
1959
東京タワーに設置された暗視装置

東京タワーに設置された暗視装置

日本電気株式会社の関連会社となる
近赤外線用レンズ生産開始
1961 顕微鏡機器生産開始
1973 レーザオプティクス技術の確立
1981 DUV加工用顕微鏡レンズ開発および生産開始
1984 高耐力コーティング技術の開発
(レーザ学会研究奨励賞受賞)
1985 赤外線カメラ用レンズ開発
1987
竣工当時の横浜事業所

竣工当時の横浜事業所

横浜事業所開設
1989 大気汚染観測用レーザレーダ光学系開発
1990 超高耐力紫外用フッ化物ミラー開発
1991 超高反射率(99.999%)計測技術の確立
1993 火星探査衛星搭載光学系開発
1994 昭和オプトロニクス株式会社に社名変更
1995
世界初の全波長連続化偏チタンサファイアレーザ(左) 神奈川工業技術開発大賞奨励賞の盾(右)

世界初の全波長連続可変チタンサファイアレーザ(左)
神奈川工業技術開発大賞奨励賞の盾(右)

全波長域連続可変チタンサファイアレーザの開発
(神奈川県工業技術開発大賞奨励賞を受賞)
超低損失イオンビームスパッタミラーの開発
1996 半導体励起固体レーザの開発
非球面レンズ加工技術の開発
1997 世田谷事業所開設
超高分解能DUVレンズの開発
半導体レーザビーム整形技術の開発
(国際特許出願)
1998 レーザ学会オリジナル部門論文賞受賞
(論文名「波長可変レーザ用広帯域・低損失ミラー」)
1999 日本電気株式会社よりガスレーザ事業移管
衛星搭載レーザ高度計光学系開発
ISO14001認証取得
2000 半導体励起ブルーレーザ開発
2001 ISO9001認証取得
2002
半導体検査用真空紫外域レンズ

半導体検査用真空紫外域レンズ

半導体検査用真空紫外域レンズの開発
2007 ISO27001認証取得
2010 レーザ学会産業賞受賞
(小型ブルー/グリーンレーザ)

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