SOCのコーティング技術

成膜

IBSD( Ion Beam Sputtering Deposition )

SOCでは大きく分けて3種類の蒸着装置(物理蒸着法)を使い、お客様の仕様に合った薄膜製品を製造・販売しています。その中でも最も特徴的なのがIBSD（Ion Beam Sputtering Deposition)となります。
IBSDはアルゴンイオンをターゲット材料（誘電体）に照射し、その運動エネルギーによりターゲット材料表面の原子または分子を空間内に放出することで基板上に薄膜を形成します。
IBSDは電子ビーム蒸着よりも、ターゲット原子（分子）の運動エネルギーが大きいため基板への密着度が高く（はがれにくい）、充填密度の高い（シフトレス）膜を製造することが可能です。